ArBlade5000 离子研磨系统
简介：
离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处理系统可以用于电子和先进材料等各个领域的研发和质量控制等。
与机械抛光不同，离子研磨系统处理样品而不会变形或施加机械应力。因此，用于预处理样品的离子铣削系统的应用范围不断扩大，不仅包括扫描电子显微镜（SEM），还包括原子力显微镜（SPM / AFM）等。
主要特点：
1.能够进行横截面和平面的混合研磨系统。
2.通过PLUSI离子枪技术设计高速氩离子枪实现1mm/hr或更高的横截面研磨速度。
3.通过使用广域横截面研磨，实现最 大宽度达8mm的广域加工。
4.基于采用LCD触摸面板的全新控制系统，增强了可操作性。
